Вітаю Вас ГістьСереда, 16.08.2017, 16:16

ІНТЕЛЕКТ.UA


Головна » 2015 » Грудень » 10 » Науковці розробили технологію видалення дефектів на поверхнях наноматеріалів
15:52
Науковці розробили технологію видалення дефектів на поверхнях наноматеріалів

Група науковців з Каліфорнійського університету розробила технологію, яка дозволяє видаляти дефекти на поверхнях, товщиною в атом. Це можуть бути, приміром, такі перспективні матеріали, як напівпровідники. Їх широкому впровадженню заважає саме те, що через нанорозміри на поверхнях матеріалів виникає багато пошкоджень. Усувати їх науковці пропонують за допомогою сильних органічних кислот. Аби довести ефективність процесу, вчені помістили плівку дисульфіду молібдену в розчин однієї з кислот. За допомогою деяких секретів, яких науковці не розкривають, кислота активується та видаляє з поверхні матеріалу забруднення, знищує сторонні атоми домішок з кристалічної решітки, а також заповнює пустоти «потрібними» атомами за допомогою хімічного процесу протонації. В результаті експерименту фотолюмінісцентна ефективність матеріалу зросла з одного до ста відсотків. Видалення дефектів з поверхонь одноатомних матеріалів дозволить покращити характеристики продукції, що з них виготовляються, приміром, транзисторів, що є основою цифрових чіпів. 

Переглядів: 240 | Додав: Admin | Рейтинг: 0.0/0
Статистика

Онлайн всього: 1
Гостей: 1
Користувачів: 0
Новини науки
Інформ-партнер
Наше опитування
Чи є в Україні бізнес, який підтримує дитячий інтелект?
Всього відповідей: 751
ПОДІЇ
Календар свят і подій. Листівки, вітання та побажання
ПОШУК